CVD欢迎www.cnbianmin.com简介(Chemical Vapor Deposition——化学气相沉积)(1)将各种化学反应物质:如四氯化钛(TiCl4)和甲烷(c+n+b+i+a+n+m+i+n+c+o+mCH4)等含碳气体(或其它碳氮气体)蒸气等通入反应炉体内,在高温(900~1200℃)状态下,TiCl4中的钛(Ti)和碳氢化合物中的碳(C)在模具表面行化学反进中.国.便.民.网应,从而生成一层金属化合物涂层碳化钛(TiC)。利用不同的反应物,可得到不同的薄膜,如TiN、Ti(CN)、CrC等等。(中_国_便_民_网2)CVD的优点: ①镀膜与基材的附着性优良; ②复杂的形状都可以处理:如深孔、内管、细缝等。(3)CVDwww.cnbianmin.com的优点: ①镀膜温度太高,对基材和反应设备的耐热性要求很高,很多工件难以承受; ②高温使基材尺寸变化和变形严重,故适于精密度高的工件; ③对于要求工件局部镀膜,难以实现; ④活泼性气体源的使用,制程中有爆炸、毒性气体泄漏等隐患,且对环境有污染

